<?xml version="1.0" encoding="UTF-8"?>
<rss version="2.0"
	xmlns:content="http://purl.org/rss/1.0/modules/content/"
	xmlns:wfw="http://wellformedweb.org/CommentAPI/"
	xmlns:dc="http://purl.org/dc/elements/1.1/"
	xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom"
	xmlns:sy="http://purl.org/rss/1.0/modules/syndication/"
	xmlns:slash="http://purl.org/rss/1.0/modules/slash/"
	>

<channel>
	<title>Электронный научно-практический журнал «Современные научные исследования и инновации» &#187; solar energetics</title>
	<atom:link href="http://web.snauka.ru/issues/tag/solar-energetics/feed" rel="self" type="application/rss+xml" />
	<link>https://web.snauka.ru</link>
	<description></description>
	<lastBuildDate>Fri, 17 Apr 2026 07:29:22 +0000</lastBuildDate>
	<language>ru</language>
	<sy:updatePeriod>hourly</sy:updatePeriod>
	<sy:updateFrequency>1</sy:updateFrequency>
	<generator>http://wordpress.org/?v=3.2.1</generator>
		<item>
		<title>Сравнение, синтез и получение прозрачных проводящих покрытий в лабораторных условиях</title>
		<link>https://web.snauka.ru/issues/2017/02/78290</link>
		<comments>https://web.snauka.ru/issues/2017/02/78290#comments</comments>
		<pubDate>Tue, 21 Feb 2017 14:43:23 +0000</pubDate>
		<dc:creator>Шамин Алексей Алексеевич</dc:creator>
				<category><![CDATA[05.00.00 ТЕХНИЧЕСКИЕ НАУКИ]]></category>
		<category><![CDATA[SEM]]></category>
		<category><![CDATA[Sol-gel method]]></category>
		<category><![CDATA[solar cells]]></category>
		<category><![CDATA[solar energetics]]></category>
		<category><![CDATA[TCO]]></category>
		<category><![CDATA[золь-гель метод]]></category>
		<category><![CDATA[прозрачные проводящие покрытия]]></category>
		<category><![CDATA[сканирующий электронный микроскоп]]></category>
		<category><![CDATA[солнечная энергетика]]></category>
		<category><![CDATA[солнечные элементы]]></category>

		<guid isPermaLink="false">https://web.snauka.ru/issues/2017/02/78290</guid>
		<description><![CDATA[Прозрачное проводящее покрытие представляет собой тонкую пленку из оптически прозрачного проводящего материала. В качестве основного материала, использующегося для получения прозрачного проводящего покрытия используется слой оксида индия, легированного оловом (ITO). Данный материал имеет малое сопротивление (10-4 Ом/см) и высокую проницаемость (не менее 80%). Однако, производство ITO является дорогим, поскольку индий – основной материал соединения – не [...]]]></description>
			<content:encoded><![CDATA[<p>Прозрачное проводящее покрытие представляет собой тонкую пленку из оптически прозрачного проводящего материала. В качестве основного материала, использующегося для получения прозрачного проводящего покрытия используется слой оксида индия, легированного оловом (<em>ITO</em>). Данный материал имеет малое сопротивление (10<sup>-4</sup> Ом/см) и высокую проницаемость (не менее 80%). Однако, производство <em>ITO</em> является дорогим, поскольку индий – основной материал соединения – не сильно распространён в земной коре. Так, например, в 2006 году стоимость одного килограмма данного металла превышала 800$ [1].</p>
<p>Поэтому, не смотря на имеющиеся преимущества <em>ITO</em>, постоянно ведутся работы по поиску альтернатив. Так, например, довольно-таки часто используется оксид олова, легированный фтором (<em>FTO</em>). По последним данным физикам удалось достичь сопротивления 4.3 * 10<sup>-4</sup> Ом/см и прозрачности, равной 86%. Также в качестве альтернативы может быть использован оксид олова, легированный сурьмой (<em>ATO</em>), обладающий сопротивлением, равным 28010<sup>-4</sup> Ом/см [2]. Помимо уже обозначенных материалов могут быть использованы оксид цинка (<em>AZO</em>), легированный алюминием, или оксид цинка, легированный галлием (<em>GZO</em>) [3]. Несмотря на ощутимые достоинства последних (чуть большее сопротивление сопротивление и проводимость), они обладают рядом неприятных недостатков, таких как высокая чувствительность к кислороду и невозможность их нанесения на большие подложки.</p>
<p>Активно ведутся поиски органического материала, обладающего схожими с <em>ITO</em> свойствами. В качестве альтернативы называют соединения на основе графена, а также такие сети органических полимеров, как <em>PEDOT</em> (3,4-этилендиокситиофен).</p>
<p>Несмотря на все преимущества <em>ITO</em>, в качестве прозрачного проводящего покрытия для солнечных элементов на основе гибридных органо-неорганических перовскитов будут использоваться покрытия на основе оксида олова, легированного фтором <em>FTO</em> с целью уменьшения стоимости конечного устройства. В рамках данной работы оптимальными будут считаться те параметры <em>FTO</em>, которые будут иметь следующие значения (таблица 1).</p>
<p>Таблица 1 – Оптимальные параметры подложек с покрытием <em>FTO</em><em></em></p>
<div>
<table border="1" cellspacing="0" cellpadding="0">
<tbody>
<tr>
<td width="325">Параметр</td>
<td width="175">Значение</td>
</tr>
<tr>
<td width="325">Размер</td>
<td width="175">200×200×2 mm</td>
</tr>
<tr>
<td width="325">Поверхностное сопротивление</td>
<td width="175">8.5~15 Ом/□</td>
</tr>
<tr>
<td width="325">Прозрачность в видимой области спектра</td>
<td width="175">&gt;75%</td>
</tr>
<tr>
<td width="325">Рабочая температура</td>
<td width="175">300 °C</td>
</tr>
</tbody>
</table>
</div>
<p>Существует несколько способов нанесения ППП на стеклянные подложки.  Среди них химическое осаждение металлорганических паров (<em>MOCVD</em>), лучевое осаждение металлорганического пучка (<em>MBE</em>), осаждение раствора, спрей-пиролиз, золь-гель метод, распыление через ультразвуковое сопло и импульсное лазерное осаждение (<em>PLAD</em> или <em>PLD</em>).</p>
<p>В сравнении с остальными методами золь-гель метод является наиболее привлекательным для получения прозрачных проводящих покрытий, поскольку является дешевым, простым в освоении и не токсичным. Данный метод позволяет наносить покрытия на подложки любого размера при комнатной температуре. Более того, за счет простоты организации производства возможно постоянно изменять свойства конечного раствора за счет изменения концентрации вводимых компонентов, что в конечном счете позволяет получать растворы, обладающие различными свойствами. Как правило, полученные в результате дальнейшей сушки пленки обладают одинаковыми свойствами. Таким образом, золь-гель метод может лечь в основу серийного производства. К тому же, данная технология хорошо изучена и активно применяется на кафедре «Нано- и микроэлектроника» Пензенского Государственного Университета.</p>
<p>Для получения прозрачного проводящего покрытия <em>FTO</em> на стеклянных подложках использовалось следующее оборудование кафедры: вытяжной шкаф и дозатор <em>Proline</em><em>, </em>приобретенные в рамках программы У.М.Н.И.К. – 2010 И.А. Прониным, проект &#8211; «Разработка методики получения пористой матрицы на основе ортокремневой кислоты в качестве контейнера для полупроводниковой массы чувствительного элемента газового сенсора».</p>
<p>Очистка стеклянных подложек осуществлялась по используемой на кафедре «Нано- и микроэлектроника» технологии, в основе которой лежит проверка на смачиваемость. Результат считался хорошим, если пленка полностью смачивала поверхность подложки после ее погружения в раствор золя. Используемая технология очистки представлена ниже:</p>
<p>1. Проверка на наличие видимых дефектов (трещины, сколы, шероховатости). При их обнаружении экземпляр отбраковывался.</p>
<p>2. Проверка на наличие загрязнений (грязь, пыль, отпечатки пальцев и так далее). При их обнаружении проводилась механическая очистка батистовой салфеткой, смоченной в этаноле.</p>
<p>3. Обработка стеклянных подложек в ультразвуковой ванне УЗВ-4/150- МП, наполненной ацетоном в течение 15-20 минут. Уровень наполненности ванны ацетоном определяется количеством подложек.</p>
<p>4. Обработка стеклянных подложек в ультразвуковой ванне УЗВ-4/150- МП, наполненной жидким стеклоочистителем («Мастер блеск» (состав: изопропиловый спирт, этиленгликоль, сульфоэтоксилат натрия и др.)) в течение 15-20 минут.</p>
<p>5. Обработка стеклянных подложек в ультразвуковой ванне УЗВ-4/150- МП, наполненной дистиллированной водой в течение 15-20 минут.</p>
<p>6. Повторная обработка стеклянных подложек в ультразвуковой ванне УЗВ-4/150- МП, наполненной дистиллированной водой в течение 5-7 минут.</p>
<p>7. Сушка подложек в течение 20-30 минут.</p>
<p>Для получения раствора золя, в который впоследствии погружались стеклянные подложки с целью формирования на них тонкого слоя <em>FTO</em>, могут использоваться следующие химические вещества:</p>
<ul>
<li>Дистиллированная вода (H<sub>2</sub>O)</li>
<li>Соляная кислота 5% (HCl)</li>
<li>Тетроэтоксилан (Si(C<sub>2</sub>H<sub>5</sub>)<sub>4</sub>O<sub>4</sub>)</li>
<li>Триэтилфторсилан (Si(C<sub>2</sub>H<sub>5</sub>O)<sub>3</sub>F)</li>
<li>Олова хлорид дигидрат (SnCl<sub>2</sub>2H<sub>2</sub>O)</li>
<li>Плавиковая кислота 40% (HF)</li>
<li>Изопропиловый спирт 99.8% (CH<sub>3</sub>CH(OH)CH<sub>3</sub>)</li>
</ul>
<p>На первом этапе формирования раствора золя производится взвешивание твердых прекурсоров (олова хлорид дигидрат (SnCl<sub>2</sub>2H<sub>2</sub>O)) на весах с ценой деления, равной 0.1 мг. Необходимое количество вещества помещается в рабочий объем, где растворяется в изопропиловом спирте. Параллельно с этим во второй пробирке производится смешивание триэтилфторсилана (Si(C<sub>2</sub>H<sub>5</sub>O)<sub>3</sub>F), дистиллированной воды (H<sub>2</sub>O) и плавиковой кислоты 40% (HF). После чего обе пробирки на два часа ставятся в держатель пробирок в вытяжной шкаф [4].</p>
<p>На втором этапе производится перемешивание полученных ранее растворов в объеме магнитной мешалки в течение 1 часа. Для ускорения процесса гомогенизации в итоговый раствор может быть добавлено несколько капель соляной кислоты 5% (HCl) [9].</p>
<p>На третьем этапе начинается погружение стеклянных подложек в раствор золя с их последующей сушкой горячим воздухом с целью формирования на их поверхности прозрачного проводящего покрытия <em>FTO</em> (рисунок 1).</p>
<p style="text-align: center;"><img class="alignnone size-full wp-image-78615" title="ris1" src="https://web.snauka.ru/wp-content/uploads/2017/02/ris16.png" alt="" width="397" height="298" /></p>
<p style="text-align: center;">Рисунок 1. Фотография образцов стеклянных подложек с нанесенным на них покрытием <em>FTO</em></p>
<p>Исследование полученных образцов c нанесенными на них ППП <em>FTO</em> проводилось с помощью сканирующего электронного микроскопа <em>Vega</em><em>3 </em><em>Tescan</em>. На рисунке 2 представлено <em>SEM</em> – изображение, полученное с помощью данного микроскопа. Хорошо видно, что полученные покрытия являются плотными и равномерными по толщине.</p>
<p style="text-align: center;"><img class="alignnone size-full wp-image-78616" title="ris2" src="https://web.snauka.ru/wp-content/uploads/2017/02/ris24.png" alt="" width="381" height="425" /></p>
<p style="text-align: center;">Рисунок 2. <em>SEM</em> – изображение образцов с нанесенным на них <em>FTO</em></p>
]]></content:encoded>
			<wfw:commentRss>https://web.snauka.ru/issues/2017/02/78290/feed</wfw:commentRss>
		<slash:comments>0</slash:comments>
		</item>
		<item>
		<title>Сравнение, синтез и получение металлооксидных пленок TiO2 в лабораторных условиях</title>
		<link>https://web.snauka.ru/issues/2017/02/78291</link>
		<comments>https://web.snauka.ru/issues/2017/02/78291#comments</comments>
		<pubDate>Mon, 27 Feb 2017 14:51:03 +0000</pubDate>
		<dc:creator>Шамин Алексей Алексеевич</dc:creator>
				<category><![CDATA[05.00.00 ТЕХНИЧЕСКИЕ НАУКИ]]></category>
		<category><![CDATA[metal oxide film]]></category>
		<category><![CDATA[roller method]]></category>
		<category><![CDATA[SEM]]></category>
		<category><![CDATA[solar cells]]></category>
		<category><![CDATA[solar energetics]]></category>
		<category><![CDATA[металлоксидные пленки]]></category>
		<category><![CDATA[роллерный метод]]></category>
		<category><![CDATA[сканирующий электронный микроскоп]]></category>
		<category><![CDATA[солнечная энергетика]]></category>
		<category><![CDATA[солнечные элементы]]></category>

		<guid isPermaLink="false">https://web.snauka.ru/issues/2017/02/78291</guid>
		<description><![CDATA[Как уже было отмечено ранее, основной функцией металлооскидоного полупроводника является перенос электронов от слоя перовскита к прозрачному проводящему покрытию. Следующие вещества могут быть использованы для формирования данного слоя: Диоксид титана (TiO2); Оксид Олова IV (SnO2); Оксид Меди (Cu2O); Оксид цинка (ZnO); Оксид Индия (In2O3). Согласно [1] наиболее предпочтительным является оксид индия, однако, его высокая стоимость, [...]]]></description>
			<content:encoded><![CDATA[<p><span style="text-align: justify;">Как уже было отмечено ранее, основной функцией металлооскидоного полупроводника является перенос электронов от слоя перовскита к прозрачному проводящему покрытию. Следующие вещества могут быть использованы для формирования данного слоя:</span></p>
<ul>
<li>
<div style="text-align: justify;"><span>Диоксид титана (TiO2);<br />
</span></div>
</li>
<li>
<div style="text-align: justify;"><span>Оксид Олова IV (SnO2);<br />
</span></div>
</li>
<li>
<div style="text-align: justify;"><span>Оксид Меди (Cu2O);<br />
</span></div>
</li>
<li>
<div style="text-align: justify;"><span>Оксид цинка (ZnO);</span></div>
</li>
<li>
<div style="text-align: justify;">Оксид Индия (In2O3).</div>
</li>
</ul>
<p style="text-align: justify;"><span>Согласно [1] наиболее предпочтительным является оксид индия, однако, его высокая стоимость, как и в случае с ППП на основе ITO, накладывает определенные ограничения и существенно увеличивает цену конечного продукта, поэтому от данного типа металлооксида пришлось отказаться. Все прочие кроме диоксида титана не демонстрируют необходимой эффективности энергопреобразования [2] [3], поэтому в качестве основных материалов для формирования слоя металлооксида использоваться не могут. Таким образом, в данной работе был сделан выбор в пользу изготовления солнечных элементов на основе гибридных органо-неорганических перовскитов с использованием диоксида титана.<br />
</span></p>
<p style="text-align: justify;"><span>Существует несколько способов формирования слоя диоксида титана на поверхности прозрачного проводящего покрытия FTO на стеклянной подложке. Среди них электрохимическое анодирование, низкотемпературное газовое осаждение, спрей-пиролиз, золь-гель и так называемый роллерный метод [4].<br />
</span></p>
<p style="text-align: justify;"><span>Поскольку нанесение металлооксидных пленок методом спрей-пиролиза уже разрабатывается и используется в рамках другого проекта – победителя У.М.Н.И.К – «<span style="color: black; background-color: #f8f8f8;">Разработка технологии получения металлооксидных пленок для сенсибилизированных красителем солнечных элементов» за авторством С.В. Ракши &#8211; данный способ рассматриваться не будет.<br />
</span></span></p>
<p style="text-align: justify;"><span style="color: black; times new roman; 12pt; background-color: #f8f8f8;">Электрохимическое осаждение и низкотемпературное газовое осаждение являются дорогими и ресурсоемкими методами [5]. Сюда же можно отнести золь-гель метод, который в данном случае не требует целой системы поддержания постоянной температуры в течение нескольких суток. [6].<br />
</span></p>
<p style="text-align: justify;"><span style="color: black; times new roman; 12pt; background-color: #f8f8f8;">Таким образом, для получения металлооксидных пленок будет использоваться роллерный метод, который представляет собой нанесение пасты диоксида титана с помощью стеклянного стержня. Для реализации подобного подхода понадобятся следующие химические вещества и оборудование:</span></p>
<ul>
<li>
<div style="text-align: justify;"><span style="color: black; times new roman; 12pt; background-color: #f8f8f8;">Кристаллический диоксид титана (TiO<sub>2</sub>)<br />
</span></div>
</li>
<li>
<div style="text-align: justify;"><span><span style="color: black; background-color: #f8f8f8;">Уксусная кислота (</span>CH<sub>3</sub>CO<sub>2</sub>H)<span style="color: black; background-color: #f8f8f8;"><br />
</span></span></div>
</li>
<li>
<div style="text-align: justify;"><span style="color: black; times new roman; 12pt; background-color: #f8f8f8;">Этанол 95% (С<sub>2</sub>H<sub>5</sub>OH)<br />
</span></div>
</li>
<li>
<div style="text-align: justify;"><span style="color: black; times new roman; 12pt; background-color: #f8f8f8;"><em>Triton X-100</em> (C<sub>14</sub>H<sub>22</sub>O(C<sub>2</sub>H<sub>4</sub>O)<sub>n</sub>)<br />
</span></div>
</li>
<li>
<div style="text-align: justify;"><span style="color: black; times new roman; 12pt; background-color: #f8f8f8;">Скотч<br />
</span></div>
</li>
<li>
<div style="text-align: justify;"><span style="color: black; times new roman; 12pt; background-color: #f8f8f8;">Электрическая плитка<br />
</span></div>
</li>
<li>
<div style="text-align: justify;"><span style="color: black; times new roman; 12pt; background-color: #f8f8f8;">Ступка и пестик</span></div>
</li>
<li>
<div style="text-align: justify;"><span style="background-color: #f8f8f8;">Шприц без иглы</span></div>
</li>
</ul>
<p style="text-align: justify;"><span style="color: black; times new roman; 12pt; background-color: white;">Методика получения металлооксидных пленок с помощью роллерного метода состоит из следующих этапов:</span></p>
<ol>
<li>
<div style="text-align: justify;"><span style="color: black; times new roman; 12pt; background-color: white;">Подготовить поверхности подложек (см. п. 2.1)<br />
</span></div>
</li>
<li>
<div style="text-align: justify;"><span style="color: black; times new roman; 12pt; background-color: white;">Размолоть необходимое количество диоксида титана в ступке. В полученную пыль добавить несколько капель уксусной кислоты до образования коллоидной суспензии гладкой консистенции.<br />
</span></div>
</li>
<li>
<div style="text-align: justify;"><span style="color: black;"><span style="background-color: white;">Добавить некоторое количество </span><span style="background-color: #f8f8f8;"><em>Triton X-100</em> и снова перемешать.</span></span></div>
</li>
<li>
<div style="text-align: justify;"><span style="background-color: white;">Полученную пасту необходимо поместить в объем шприца и нанести на закрепленную на твердой поверхности скотчем стеклянную подложку (рисунок 1).</span></div>
</li>
</ol>
<p style="text-align: center;"><img src="https://web.snauka.ru/wp-content/uploads/2017/02/022117_1451_1.jpg" alt="" /><span style="color: black; times new roman; 12pt; background-color: white;"><br />
</span></p>
<p style="text-align: center;"><span style="color: black; times new roman; 12pt; background-color: white;">Рисунок 1. нанесение пасты на поверхность стеклянной подложки <em>FTO</em></span></p>
<ol>
<li>
<div style="text-align: justify;"><span style="color: black; times new roman; 12pt; background-color: white;">Аккуратно удалить скотч и поместить стеклянную подложку на электрическую плитку на 20 минут при температуре 80 градусов. В некоторых случаях стекло может треснуть. Данные образцы отбраковываются.</span></div>
</li>
<li>
<div style="text-align: justify;"><span style="background-color: white;">Позволить полученным образцам (рисунок 2) остыть.</span></div>
</li>
</ol>
<p style="text-align: center;"><img src="https://web.snauka.ru/wp-content/uploads/2017/02/022117_1451_2.jpg" alt="" /><span style="color: black; times new roman; 12pt; background-color: white;"><br />
</span></p>
<p style="text-align: center;"><span style="color: black; background-color: white;">Рисунок 2.</span> Фотография образца стеклянных подложек с нанесенным на него металлооксидом диоксида титана</p>
<p style="text-align: justify;">Исследование данного образца c нанесенным на него металлооксидом проводилось с помощью сканирующего электронного микроскопа <em>Vega3 Tescan</em>. На рисунках 3 и 4 представлены <em>SEM</em> – изображения, полученные с помощью данного микроскопа. Хорошо видно, что полученные покрытия обладают правильной поверхностной морфологией, что соотносится с исследованиями [2] и [6].</p>
<p style="text-align: center;"><img src="https://web.snauka.ru/wp-content/uploads/2017/02/022117_1451_3.png" alt="" /></p>
<p style="text-align: center;">Рисунок 3. <em>SEM</em> – изображение образца с нанесенным на него слоем металлооксида диоксида титана (50 мкм)</p>
<p style="text-align: center;">.<img src="https://web.snauka.ru/wp-content/uploads/2017/02/022117_1451_4.png" alt="" /></p>
<p style="text-align: center;">Рисунок 4. <em>SEM</em> – изображение образца с нанесенным на него слоем металлооксида диоксида титана (5 мкм)</p>
]]></content:encoded>
			<wfw:commentRss>https://web.snauka.ru/issues/2017/02/78291/feed</wfw:commentRss>
		<slash:comments>0</slash:comments>
		</item>
	</channel>
</rss>
