Оптоволоконные системы открывают большие перспективы для построения лазерных систем инициирования взрывчатых веществ. Оптоволоконные системы с полупроводниковыми лазерами в качестве источников излучения являются перспективными средствами инициирования взрывчатых веществ.

Исследование быстропротекающих физико-химических процессов продолжительностью порядка 10^-6 требует применения особых методов и приборов, позволяющих получать картину протекания процесса и измерить его скорость за малые промежутки времени.

Принцип фоторегистрации быстропротекающей химической реакции состоит в фотографировании свечения, перемещающегося по веществу по мере распространения реакции от слоя к слою.

Оптические зонды с волоконным световодами прим меняются для определения времени прихода фронтов ударных и детонационных волн в субмикросекундном диапазоне.

Разработан стенд для экспериментального исследования инициирования лазерным излучением быстропротекающих процессов: горения, взрывного горения, перехода горения в детонацию и непосредственно детонации конденсированных средах

Стенд позволяет проводить эксперименты в атмосфере воздуха и в защитной среде с помощью специально разработанных для этих целей экспериментальных ячеек.

В информационно-измерительной системе применяются газовые непрерывные лазеры.

При проведении экспериментальных исследований имеется возможность варьировать величину мощности излучения, длину волны или осуществлять суммирование сигналов от источников с различными длинами волн.

В процессе создания стенда для экспериментального исследования процессов взаимодействия лазерного излучениям с высокоэнергетическими веществами была проведена оценка погрешности определения основных параметров процесса. Минимальный регистрируемый уровень освещенности определяется чувствительностью фотопленки.

Создана экспериментальная установка для исследования процессов детонации мощных зарядов высокоэнергичных веществ в зависимости от величины удельного усилия предварительного прессования взрывчатого продукта и величины удаления фокуса оптической системы от поверхности образца.